SRI-TH

Das in Zusammenarbeit mit Fraunhofer ISE entwickelte System SRI-TH dient der vergleichenden Messung von Emitterschichtwiderständen von Dünnschichtzellen z.B. vor und nach Emitter-Diffusion. Eine hochauflösende, schnelle Infrarot-Kamera liefert präzise Messwerte. Dieses neue System macht eine schnelle, kontaktlose Qualitätskontrolle von Diffusionsprozessen in Wafern und bei Produktionsverfahren von Solarzellen möglich.

Der entscheidende Vorteil dieses rein optischen Verfahrens im Vergleich zu elektrischen Methoden wie der 4-Punkt-Messung liegt darin, dass die seitliche Auflösung / Verteilung nur durch optische Faktoren und nicht durch mechanische Eigenschaften wie Dicke oder kleinstmöglicher Versatz der Messspitze bestimmt ist. In der derzeitigen Ausführung wurde eine Auflösung von bis zu 100 µm erreicht. Durch entsprechende Linsensysteme sind noch höhere Auflösungen erreichbar.

Technische Spezifikation

• Schnelle, hochpräzise Infrarotkamera mit hoher Auflösung
• Zellgröße bis zu 156x156 mm (Modell SRI 156) bzw. 210x210 mm (Modell CSRI 210)
• Zerstörungsfreie, kontaktlose Messungen
• Messzeiten unter 10 Sekunden
• CDI, ILIT und SRI sind ebenfalls erhältlich in Kombination als IR-Multitool 210